核心优势
核心优势：
- 磁控溅射镀膜，沉积速率快；
- 多角度全面镀膜，样品台直径70mm，倾角±35°，升降0-20mm；
- 触屏操作简便；
- 样品室可抽真空，用于样品真空保存。
用户界面
- 产品描述
- 用户界面
- 性能参数
- 应用案例
-
- 商品名称: 离子溅射镀膜仪YMC-100
YMC-100离子溅射镀膜仪采用磁控溅射镀膜，沉积速率快，镀膜操作简便，适用于不同种类的扫描电镜非导电样品。
核心优势：
- 磁控溅射镀膜，沉积速率快；
- 多角度全面镀膜，样品台直径70mm，倾角±35°，升降0-20mm；
- 触屏操作简便；
- 样品室可抽真空，用于样品真空保存。
-
使用便利：
- 用户界面简洁，参数设置便利；
- 工作时显示设备关键参数，全过程可控；
- 模块化设计，不同功能间切换快捷；
- 维护简单，无需特殊保养。
-
离子溅射镀膜仪参数 设备整体尺寸（宽*高*厚） 435*380*310mm 腔室尺寸 120*120*120mm 触摸屏尺寸 7寸 工作电压 220V 功率 1KW 靶材尺寸 Φ50*0.1mm 工作气压 ＜10Pa 抽真空时间 ＜1.5min
性能参数
- 产品描述
- 用户界面
- 性能参数
- 应用案例
-
- 商品名称: 离子溅射镀膜仪YMC-100
YMC-100离子溅射镀膜仪采用磁控溅射镀膜，沉积速率快，镀膜操作简便，适用于不同种类的扫描电镜非导电样品。
核心优势：
- 磁控溅射镀膜，沉积速率快；
- 多角度全面镀膜，样品台直径70mm，倾角±35°，升降0-20mm；
- 触屏操作简便；
- 样品室可抽真空，用于样品真空保存。
-
使用便利：
- 用户界面简洁，参数设置便利；
- 工作时显示设备关键参数，全过程可控；
- 模块化设计，不同功能间切换快捷；
- 维护简单，无需特殊保养。
-
离子溅射镀膜仪参数 设备整体尺寸（宽*高*厚） 435*380*310mm 腔室尺寸 120*120*120mm 触摸屏尺寸 7寸 工作电压 220V 功率 1KW 靶材尺寸 Φ50*0.1mm 工作气压 ＜10Pa 抽真空时间 ＜1.5min
应用案例
- 产品描述
- 用户界面
- 性能参数
- 应用案例
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- 商品名称: 离子溅射镀膜仪YMC-100
YMC-100离子溅射镀膜仪采用磁控溅射镀膜，沉积速率快，镀膜操作简便，适用于不同种类的扫描电镜非导电样品。
核心优势：
- 磁控溅射镀膜，沉积速率快；
- 多角度全面镀膜，样品台直径70mm，倾角±35°，升降0-20mm；
- 触屏操作简便；
- 样品室可抽真空，用于样品真空保存。
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使用便利：
- 用户界面简洁，参数设置便利；
- 工作时显示设备关键参数，全过程可控；
- 模块化设计，不同功能间切换快捷；
- 维护简单，无需特殊保养。
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离子溅射镀膜仪参数 设备整体尺寸（宽*高*厚） 435*380*310mm 腔室尺寸 120*120*120mm 触摸屏尺寸 7寸 工作电压 220V 功率 1KW 靶材尺寸 Φ50*0.1mm 工作气压 ＜10Pa 抽真空时间 ＜1.5min