核心优势
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用户界面
- 产品描述
- 用户界面
- 性能参数
- 应用案例
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- 商品名称: 三合一多功能样品清洗机MC-4
MC-4 多功能电镜样品清洗机集Downstream等离子体、紫外辐照、加热真空脱附三种清洗模式于一体，适用于扫描电镜、聚焦离子束显微镜、透射电镜等样品清洗。
- 集Downstream等离子体、紫外辐照、加热真空脱附三种清洗模式于一体，随时切换
- 适用于各种扫描电镜、聚焦离子束显微镜、透射电镜样品清洗
- 高分辨触屏操作、支持WiFi环境下远程控制
- 可作为恒温真空样品储存柜
- 采用特殊设计，实现扫描电镜和透射电镜两类仪器样品的高效清洗
- 样品室预留专用接口，方便透射电镜样品杆接入
-
- 用户界面简洁，设备使用高效
- 工作时显示设备关键参数，全过程可控
- 模块化设计，功能模式切换快捷
- 维护简单，无需特殊保养
-
仪器整体参数 设备整体尺寸（长*宽*高） 475*345*340mm 重量 15kg 样品室尺寸（长*宽*高） 120*120*150mm 触摸屏尺寸 9寸 等离子清洗工作参数 清洗功率 5-100W 工作真空 ＜80Pa 射频频率 13.56MHz 特征电阻 50Ω 紫外清洗工作参数 辐照功率 35W 工作真空 5*104Pa 加热清洗工作参数 最高加热温度 150℃ 控温精度 1℃ 加热功率 130W -
1、等离子清洗
- 新型电感耦合等离子源(ICP)，粒子密度远高于传统的电容耦合技术(CCP)
- 产生高浓度氧自由基，高效去除样品表面碳氢污染物
- “Downstream”清洗方式，样品表面无损清洗，最大程度保持样品表面原始形貌
金颗粒标样
清洗前：中心区域有明显积碳
清洗后：积碳被清洗干净
2、紫外清洗
- 两种特殊波段紫外光同时辐照样品室
- 样品室内产生高浓度高活性氧自由基
- 表面污染物和氧自由基反应分解去除
硅片样品
清洗前：中心区域有明显积碳 清洗后：积碳被清洗干净 3、加热清洗
- 样品室升温迅速，最高可加热至150°C
- 高精度温控，温度精度控制在±1°C
- 搭配真空泵抽真空，可使样品表面污染物快速挥发去除
铁铂纳米颗粒样品（有机溶剂超声分散处理）
清洗前，颗粒周围包裹有机溶剂，成像时边界模糊 清洗后，颗粒周围有机溶剂去除，成像清晰度明显提升
性能参数
- 产品描述
- 用户界面
- 性能参数
- 应用案例
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- 商品名称: 三合一多功能样品清洗机MC-4
MC-4 多功能电镜样品清洗机集Downstream等离子体、紫外辐照、加热真空脱附三种清洗模式于一体，适用于扫描电镜、聚焦离子束显微镜、透射电镜等样品清洗。
- 集Downstream等离子体、紫外辐照、加热真空脱附三种清洗模式于一体，随时切换
- 适用于各种扫描电镜、聚焦离子束显微镜、透射电镜样品清洗
- 高分辨触屏操作、支持WiFi环境下远程控制
- 可作为恒温真空样品储存柜
- 采用特殊设计，实现扫描电镜和透射电镜两类仪器样品的高效清洗
- 样品室预留专用接口，方便透射电镜样品杆接入
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- 用户界面简洁，设备使用高效
- 工作时显示设备关键参数，全过程可控
- 模块化设计，功能模式切换快捷
- 维护简单，无需特殊保养
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仪器整体参数 设备整体尺寸（长*宽*高） 475*345*340mm 重量 15kg 样品室尺寸（长*宽*高） 120*120*150mm 触摸屏尺寸 9寸 等离子清洗工作参数 清洗功率 5-100W 工作真空 ＜80Pa 射频频率 13.56MHz 特征电阻 50Ω 紫外清洗工作参数 辐照功率 35W 工作真空 5*104Pa 加热清洗工作参数 最高加热温度 150℃ 控温精度 1℃ 加热功率 130W -
1、等离子清洗
- 新型电感耦合等离子源(ICP)，粒子密度远高于传统的电容耦合技术(CCP)
- 产生高浓度氧自由基，高效去除样品表面碳氢污染物
- “Downstream”清洗方式，样品表面无损清洗，最大程度保持样品表面原始形貌
金颗粒标样
清洗前：中心区域有明显积碳
清洗后：积碳被清洗干净
2、紫外清洗
- 两种特殊波段紫外光同时辐照样品室
- 样品室内产生高浓度高活性氧自由基
- 表面污染物和氧自由基反应分解去除
硅片样品
清洗前：中心区域有明显积碳 清洗后：积碳被清洗干净 3、加热清洗
- 样品室升温迅速，最高可加热至150°C
- 高精度温控，温度精度控制在±1°C
- 搭配真空泵抽真空，可使样品表面污染物快速挥发去除
铁铂纳米颗粒样品（有机溶剂超声分散处理）
清洗前，颗粒周围包裹有机溶剂，成像时边界模糊 清洗后，颗粒周围有机溶剂去除，成像清晰度明显提升
应用案例
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- 性能参数
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- 商品名称: 三合一多功能样品清洗机MC-4
MC-4 多功能电镜样品清洗机集Downstream等离子体、紫外辐照、加热真空脱附三种清洗模式于一体，适用于扫描电镜、聚焦离子束显微镜、透射电镜等样品清洗。
- 集Downstream等离子体、紫外辐照、加热真空脱附三种清洗模式于一体，随时切换
- 适用于各种扫描电镜、聚焦离子束显微镜、透射电镜样品清洗
- 高分辨触屏操作、支持WiFi环境下远程控制
- 可作为恒温真空样品储存柜
- 采用特殊设计，实现扫描电镜和透射电镜两类仪器样品的高效清洗
- 样品室预留专用接口，方便透射电镜样品杆接入
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- 用户界面简洁，设备使用高效
- 工作时显示设备关键参数，全过程可控
- 模块化设计，功能模式切换快捷
- 维护简单，无需特殊保养
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仪器整体参数 设备整体尺寸（长*宽*高） 475*345*340mm 重量 15kg 样品室尺寸（长*宽*高） 120*120*150mm 触摸屏尺寸 9寸 等离子清洗工作参数 清洗功率 5-100W 工作真空 ＜80Pa 射频频率 13.56MHz 特征电阻 50Ω 紫外清洗工作参数 辐照功率 35W 工作真空 5*104Pa 加热清洗工作参数 最高加热温度 150℃ 控温精度 1℃ 加热功率 130W -
1、等离子清洗
- 新型电感耦合等离子源(ICP)，粒子密度远高于传统的电容耦合技术(CCP)
- 产生高浓度氧自由基，高效去除样品表面碳氢污染物
- “Downstream”清洗方式，样品表面无损清洗，最大程度保持样品表面原始形貌
金颗粒标样
清洗前：中心区域有明显积碳
清洗后：积碳被清洗干净
2、紫外清洗
- 两种特殊波段紫外光同时辐照样品室
- 样品室内产生高浓度高活性氧自由基
- 表面污染物和氧自由基反应分解去除
硅片样品
清洗前：中心区域有明显积碳 清洗后：积碳被清洗干净 3、加热清洗
- 样品室升温迅速，最高可加热至150°C
- 高精度温控，温度精度控制在±1°C
- 搭配真空泵抽真空，可使样品表面污染物快速挥发去除
铁铂纳米颗粒样品（有机溶剂超声分散处理）
清洗前，颗粒周围包裹有机溶剂，成像时边界模糊 清洗后，颗粒周围有机溶剂去除，成像清晰度明显提升